光刻机也有人称为曝光机,光刻工艺,要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
通俗一点讲,光刻就是在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制“到硅片上的过程。
光刻机是生产大规模集成电路的核心设备,制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,世界上只有少数厂家掌握。
因此光刻机价格昂贵,通常在 3 千万至 5 亿美元之间。
光刻机、芯片,差不多代表人类最前沿的科技之一,属于高新科技,一个国家工业的发展,就离不开芯片。
被誉为中国光谷的城市,曾经砸下一千多亿,寄予厚望,希望能孵化出属于中国的芯片产业,但终究还是一场空。
可见,有些科技不是你用钱就能砸出来的。
羊城市政府,得知对方是生产芯片的,甚至给与各种政策
...